中山喷漆废气处理UV光解催化器 UV光解

UV光解催化氧化技术优势
占地小，投资抵；
即开即用，清洗简单，方便维护；
耐冲击负荷，不易受污染物浓度计温度变化影响； 适用范围广，尤其对恶臭气体有很好的去除率。废气通过风机输送至装置内，在装置产生的强氧化性物质（臭氧）和紫外线及催化剂作用下，被*裂解，氧化，降解成低分子化合物，水和二氧化碳。
光催化氧化处理**废气的主要原理是利用光催化剂锐钛型二氧化钛（TiO2），二氧化钛（TiO2）作为一种新的光催化半导体材料，近半个世纪以来的成功运用。日本已将其列为本世纪重点发展的新技术，被誉为当今世界上的空气净化新技术，近来在中国也得到较广泛应用。光催化剂是光催化过程的关键部分，其活性的高低严重影响光催化效果。目前所用的光催化剂二氧化钛（TiO2）的光催化活性又不产生光腐蚀，且无毒**，是目前广泛使用的光催化剂。
在室温下，当UV紫外线光灯，波长在253.7nm以下的光**照射到二氧化钛颗粒上时，催化剂在价带的电子被光**所激发，跃迁到导带形成自由电子。二氧化钛而在价带形成一个带正电的空穴，这样就形成电子－空穴对。利用所产生的空穴的氧化及自由电子的还原能力，二氧化钛和表面接触的水分H2O和O2发生反应，产生氧化力较强的自由基，这些自由基几乎可分解和断裂所有**物的官能键，改变废气中**物分子的结构,并将其所含的氢（H）和碳（C）变成水和二氧化碳，**废气中得到降解和净化。
光催化氧化处理装置在处理**废气的的同时，同时也具有较好的除臭功能。

UV光氧废气处理设备特点
1、除恶臭：能去除挥发性**物（VOC）、无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等首要污染物，以及各种恶臭味，脱臭功率高可达99%以上，脱用大大追赶国家1993年公布的恶臭污染物排放规范（GB14554-93）。恶臭气体利用排风设备输入到本净化设备后，**废气处理设备净化运用高能UV紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同分解氧化反应，使恶臭气体物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通过排风管道排出室外。
2、*增加任何物质：只需要设置相应的排风管道和排风动力，使恶臭气体经过本设备进行脱臭分化净化，*增加任何物质参加化学反应。
3、习惯性强：可习惯高浓度，大气量，不同恶臭气体物质的脱臭净化处理，可每天接连作业，运转安稳牢靠。
4、运转成本低：本设备无任何机械动作，无噪音，*专人办理和日常保护，只需作定时查看，本设备能耗低，（每处理1000立方米/小时，仅耗电约0.2度电能），设备风阻低＜50pa，可节约很多排风动力能耗。
5、*预处理：恶臭气体*进行特别的预处理，如加温、加湿等，设备作业环境温度在摄氏-30℃－95℃之间，湿度在30%－98%、PH值在2-13之间均可正常作业。
6、设备占地面积小、自重轻、适合于布置紧凑、场所狭小等特别条件，设备占地面积＜1平方米/处理10000m3/h风量。
7、进口材料制造：防火、防腐蚀功能高，功能安稳，运用寿命长。
8、环保高科技**产品：采用国际上技术理念，通过及我公司工程技术人员长期反复的试验，开发研制出的，具有完全自主知识产权的高科技环保技术产品，可彻底分解恶臭气体中有毒有害物质，并能达到完脱臭效果，经分解后的恶臭气体，可完全达到无害化排放，绝不产生二次污染，同时达到消毒杀菌的作用。

uv光解费用大概多少钱，uv光氧设备刚一出现的时候，价格是非常高的，经过两三年的推广使用，如今已经变得非常*，但是设备质量也同样打了很多折扣，所以现在uv光解费用比原来要低很多。
uv光解废气的适用范围主要运用于油漆喷涂、化工业、造纸业、制、轮胎及橡胶生产厂、汽车生产、污水处理、污泥废气处理、垃圾处理废气、皮革业、印刷厂、香料生产业、饲料及饲养场、农药生产以及**业等等多个领域的有毒有害气体、异味和恶臭**废气处理。除恶臭：能去除挥发性**物（VOC）、无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等主要污染物，以及各种恶臭味，脱臭效率可达99％以上，脱臭效果大大**过国家1993年颁布的恶臭污染物排放标准（GB14554-93）。

使用废气处理设备处理车间产生的有害气体，这一点毋庸置疑，对于不同的行业所产生的废气的浓度、废气量、温度、成分都不相同，所以就需要根据每个不同的工艺，选择不同的废气处理设备环保设备，对于这些设备的选择，有很多客户是迷茫的因为之前可能没有接触过这方面的知识，所以就满网络的寻找能处理这些废气的设备，小编为您介绍一下UV光氧催化设备？
 UV光氧催化设备：光的能量足够使**废气分子内的化学键断裂时，只有激发能量大于化学键能时，满足这两个条件，才会让化学键发生分解反应。其次，**废气分子对某种特定波长的光要有特征吸收光谱，才能产生光化学反应。另外，物质被照射的时间越长，光解的效果越好，所以在消毒柜中利用紫外线灯消灭有非常好的效果，然而在我们废气处理当中，由于气体始终是处于流动状态，所以效率受到气体在设备中的停留时间的影响。
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